Matcher ICP 플라즈마 매칭 문의

2011.10.05 09:57

김동국 조회 수:21200

안녕하세요. 졸업을 압두고 있는 석사과정의 대학원생입니다.

 

다름이 아니라 졸업논문을 위해 실험하던중 icp플라즈마 매칭 관련 문의를 드릴것이 있어서 이렇게 글을 남깁니다.

 

진공 챔버 전단에 내경 100mm 길이 600mm의 석영관의 반응기가 설치 되어 있고(진공분위기를 위해 0.1Torr~ 0.4Torr)

 

ICP형상의 전극구조가 반응기 위에 코일 형식의 1/4inch 크기의 동파이로 감겨 있습니다.

 

전원공급기로는 RF전원으로 구동주파수 13.56MHz 출력임피던스 50 전력범위 1.6kw의 사양을 갖고 있습니다.

 

RF매칭 박스를 통해 나오는 전원케이블과 그라운드케이블을

 

전극 끝단에 물려있는 상태입니다.

 

바탕가스는 Ar 이 약 200sccm이 흐르고 있습니다.

 

이 시스템 상황에서 플라즈마가 발생이 안되고 있습니다.

 

전원공급기의 디스플레이에서

 

forward power와 reflected power 가 거의 같습니다.

 

전원공급기 업체 기술자 분이 오셔서 매칭 박스 안의 작은 소자 같은걸 교환해보거나

load indicate , tune indicate 를 조작하고

아무튼 해결을 못하고 있습니다.

 

저도 이쪽으로는 지식이 없어 어려움을 겪고 있습니다.

 

매칭 문제에 대해서 기술자분에게 조언을 해줄수 있는 부분이나

다른 도움이 될 수 있는 정보좀 부탁드리겠습니다.

 

감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76861
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20264
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92647
257 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1191
256 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1190
255 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1184
254 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1180
253 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1172
252 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1171
251 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1171
250 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1164
249 공정플라즈마 [1] 1156
248 Group Delay 문의드립니다. [1] 1151
247 전자 온도 구하기 [1] file 1147
246 자기 거울에 관하여 1145
245 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1143
244 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1142
243 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1137
242 wafer bias [1] 1136
241 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1131
240 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1130
239 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1126
238 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1123

Boards


XE Login