ICP ICP TORCH의 냉각방법
2004.06.21 15:30
질문 ::
ICP TORCH에 관하여 문의를 드립니다.
ICP TORCH를 이용 유리와 같은 물질을 가열하는 장치를 연구하고 있는데 TORCH의 구조는 COIL과 QUARTZ관으로 구성되며 QUARTZ관은 내경50mm정도입니다. GAS는 Ar을 사용하고 있는데 문제는 발생된PLASMA가 COIL내에서 발생되므로 QUARTZ관까지 녹는 현상이 발생됩니다. 코일은 3 -4 TURN으로 하였는데 코일밖에서 PLASMA를 발생시킬 수 는 없는지요? 아니면 QUARTZ관이 가열되지 않는 방법이 있는지 알고 싶습니다.
답변 ::
말씀하신 장치에 대해서는 직접 보지 않아 개념적인 답변을 드릴 수 밖에 없을 것 같습니다.
1 . 일단 안테나 coil을 냉각수로 냉각하도록 하십시오.
2. 입력 개스의 흐름을 유리관 벽에서 와류가 생겨 유리관으로 전달되는 열을 가급적 차단하도록
개스흐름을 조절하십시오.
일반적으로 이상의 방법을 사용하고 있습니다.
도움이 되었기를 바랍니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76841 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20252 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68744 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92588 |
| 256 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1189 |
| 255 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1184 |
| 254 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1]  | 1179 |
| 253 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1177 |
| 252 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1170 |
| 251 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
| 1168 |
| 250 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1168 |
| 249 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1162 |
| 248 | 공정플라즈마 [1] | 1154 |
| 247 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1149 |
| 246 |
전자 온도 구하기
[1] | 1145 |
| 245 | 자기 거울에 관하여 | 1143 |
| 244 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1141 |
| 243 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1137 |
| 242 | wafer bias [1] | 1135 |
| 241 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1132 |
| 240 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1128 |
| 239 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1125 |
| 238 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1125 |
| 237 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1122 |