|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[332]
| 102934 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24689 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61439 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73482 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 105846 |
|
273 |
공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1468 |
|
272 |
RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating]
[1] | 1466 |
|
271 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance]
[2] | 1461 |
|
270 |
anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
[1] | 1461 |
|
269 |
Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어]
[1] | 1459 |
|
268 |
RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning]
[1] | 1456 |
|
267 |
산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 1444 |
|
266 |
DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단]
[1] | 1444 |
|
265 |
RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias]
[1] | 1441 |
|
264 |
Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp]
[2] | 1441 |
|
263 |
sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias]
[1] | 1436 |
|
262 |
대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계]
[2] | 1436 |
|
261 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge]
[1] | 1432 |
|
260 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
[1] | 1418 |
|
259 |
Group Delay 문의드립니다. [마이크로파]
[1] | 1410 |
|
258 |
플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation]
[1] | 1407 |
|
257 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
[1] | 1407 |
|
256 |
Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동]
[1] | 1406 |
|
255 |
쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion]
[1] | 1405 |
|
254 |
Plasma Arching [Plasma property]
[1] | 1402 |
