Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여

2004.06.25 12:45

관리자 조회 수:19345 추천:286

질문 ::

ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.

ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.

ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.

답변 ::

ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76793
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20230
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92488
231 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1108
230 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1090
229 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1088
228 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1079
227 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1079
226 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1074
225 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1068
224 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1063
223 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1061
222 Plasma Arching [1] 1057
221 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1052
220 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1047
219 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1041
218 플라즈마 코팅 [1] 1038
217 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1033
216 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1030
215 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1027
214 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1023
213 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1017
212 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1013

Boards


XE Login