안녕하세요


연세대학교 대학원 석사과정 조재규 입니다.


현재 DC Magnetron Sputtering시 Target Erosion Reduction에 관해서 연구하고있습니다.

Plasma 진단과 관련하여 어려움을 겪고 있어 질문 드립니다.

DC Magnetron Sputtering 사용시 플라즈마 분포가 비균일하게 형성되기 때문에 Target Erosion이 발생합니다

따라서 이를 분석하기위해 Plasma 형상을 정량화 하려는 방법을 구상하고 있고

가장 먼저 떠오른 방법은 Langmuir Probe였습니다.

하지만 Langmuir Probe는 워낙 국소부분 진단 방법이고 측정 위치를 다양하게 하기위해선 Sputter 장비에 설치 가능여부가 의문입니다.


이러한경우 어떠한 Plasma 진단법이 적합할지 여쭈어봅니다.

그리고 Langmuir Probe를 그대로 사용할 시 Tip이 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19990
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91319
216 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1051
215 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1048
214 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1032
213 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1029
212 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1027
211 플라즈마 코팅 [1] 1026
210 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1025
209 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1024
208 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1023
207 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1020
206 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1012
205 Plasma Arching [1] 1008
204 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1005
203 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 998
» DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 996
201 고진공 만드는방법. [1] 989
200 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 987
199 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 986
198 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 986
197 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 981

Boards


XE Login