안녕하세요. 경희대학교에서 플라즈마에 대한 학부연구를 진행하고 있는 박준우라고 합니다.

플라즈마의 전자 온도에 대한 간단한 질문이 있어 QNA 드립니다.

 

플라즈마 내의 전자가 물질(substrate)과 충돌했을 때, 맞은 substrate의 전자도 온도가 올라가는 것으로 알고 있습니다.

이 때 일반적으로 진공에 떠돌아 다니는 전자의 온도와, substrate의 전자 온도의 정의를 똑같이 할 수가 없다고 하는데, 정확히 어떻게 정의가 달라지는지 궁금하여 질문 드립니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [324] 90311
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23226
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59887
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71722
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 100479
270 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1366
269 대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계] [2] 1360
268 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1353
267 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1351
266 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1347
265 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1346
264 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1337
263 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1333
262 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 1333
261 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1331
260 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 1330
259 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1327
258 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1315
257 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1310
256 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1301
255 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1297
254 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1296
253 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1294
252 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1291
251 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1282

Boards


XE Login