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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI]
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Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어]
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273 |
공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1473 |
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance]
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anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
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DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단]
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RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning]
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sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias]
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산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 1455 |
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Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp]
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center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge]
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RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias]
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대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계]
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RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택]
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261 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
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플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation]
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Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동]
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Group Delay 문의드립니다. [마이크로파]
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Plasma Arching [Plasma property]
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HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
[1] | 1411 |
