DC glow discharge corona

2004.06.21 15:12

관리자 조회 수:15886 추천:279

corona에서 arc로 진행되었다면 플라즈마 streamer가 한쪽에서 다른 한쪽으로 전이 되었다는 말입니다. 전극을 바꾸어 성공했다고
했는데 아마도 전기장을 크게 만드는 형태로 변경되었을 것입니다. 하지만 하상 trade-off가 있는데 이는 전극 표면의 변화가 심해
진다는 말도 됩니다. 또한 연속 방전의 경우 표면온도가 높게되고 이 두가지 조건은 전극 표면의 입자들이 쉽게 떨어져 나갈 수 있는
조건이 됩니다. 이들 불순물들은 플라즈마 내에서 정상상태를 왜곡시키기도 합니다. 따라서 지금 부터 많은 연구가 필요한 시점으로
생각됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76732
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20204
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
229 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1104
228 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1087
227 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1081
226 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1071
225 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1066
224 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1063
223 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1059
222 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1058
221 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
220 Plasma Arching [1] 1051
219 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1050
218 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
217 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1038
216 플라즈마 코팅 [1] 1036
215 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1030
214 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1029
213 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1022
212 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1016
211 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1013
210 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1011

Boards


XE Login