ICP ICP TORCH의 냉각방법

2004.06.21 15:30

관리자 조회 수:15920 추천:261

질문 ::

ICP TORCH에 관하여 문의를 드립니다.
ICP TORCH를 이용 유리와 같은 물질을 가열하는 장치를 연구하고 있는데 TORCH의 구조는 COIL과 QUARTZ관으로 구성되며 QUARTZ관은 내경50mm정도입니다. GAS는 Ar을 사용하고 있는데 문제는 발생된PLASMA가  COIL내에서 발생되므로 QUARTZ관까지 녹는 현상이 발생됩니다. 코일은 3 -4 TURN으로 하였는데 코일밖에서 PLASMA를 발생시킬 수 는 없는지요? 아니면 QUARTZ관이 가열되지 않는 방법이 있는지 알고 싶습니다.

답변 ::

말씀하신 장치에 대해서는 직접 보지 않아 개념적인 답변을 드릴 수 밖에 없을 것 같습니다.
1 . 일단 안테나 coil을 냉각수로 냉각하도록 하십시오.
2.  입력 개스의 흐름을 유리관 벽에서 와류가 생겨 유리관으로 전달되는 열을 가급적 차단하도록
    개스흐름을 조절하십시오.
일반적으로 이상의 방법을 사용하고 있습니다.
도움이 되었기를 바랍니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76743
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20213
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57169
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68706
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92299
229 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1104
228 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1087
227 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1082
226 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1073
225 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1066
224 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1066
223 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1060
222 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1060
221 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1058
220 Plasma Arching [1] 1052
219 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1050
218 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
217 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1038
216 플라즈마 코팅 [1] 1036
215 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1030
214 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1030
213 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1022
212 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1016
211 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1013
210 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1011
쓰기
태그

Boards

XE Login