LCD 장비 업체에 근무하는 김기권이라고 합니다.
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) Source/Drain 공정에서만 발생하고 있습니다 , 발생 시점 은 Plasma On 후 15~20sec 후 (Ti Etching 완료되고, Al 막이 전면적으로 나타난 시점)
증상은  HVDC current '0" , DC Bias 상승 (최대치인 100V 까지), 동시에 Bias Reflect (전반사 - 미세한 Refect가 아니라, 전면적인 반전)

2. 조치 사항    
    1) HVDC Swap - 변화 없음
    2) ESC Filter Swap - "    
    3) RF Matcher Swap - "
    4) ESC 교체 - 일시적 개선되나, 시간을 두고 다시 재발

장비에 문제 인지 ESC 에 문제인지 파악이 안되고 있습니다.

많은 도움 부탁드립니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103208
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24699
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61497
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73508
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105923
273 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7557
272 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매커니즘 문의.. [플라즈마 leak와 국부방전] [1] 6784
271 ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생] [1] 10476
270 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문 드립니다! [플라즈마 발생 방식과 성질] [1] 6579
269 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [플라즈마의 유지와 쉬스] [1] 10768
268 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6675
267 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [공동형 토치의 운전법 및 방전특성이해] [2] 6586
266 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [RF& DC bias와 matcher의 접지] [1] 9475
265 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [쉬스와 Bulk Plasma 영역] [1] 9203
264 플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage] [1] 6752
263 VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리] [1] 55976
262 수중 플라즈마에 대해 [수중 플라즈마의 화학 반응 현상] [1] 9154
261 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc)+Vp(plasma potential)관련 질문입니다. [플라즈마 전위와 쉬스] [1] 13160
260 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [DBD와 플라즈마 방전 메커니즘] [1] 8381
259 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10346
258 고온 플라즈마 관련 8160
257 안녕하세요 교수님. [2차 전자 방출 메커니즘] [1] 9562
256 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8749
255 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [플라즈마 형성 과정과 파센의 법칙] [1] 13776
254 MFP에 대해서.. [Collisional cross section] [1] 8088

Boards


XE Login