개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57407 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [285] 77291
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20487
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57407
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68938
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92986
247 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8134
246 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24440
245 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15901
244 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15821
243 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22323
242 cross section 질문 [1] 19739
241 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 31180
240 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17788
239 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21224
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24794
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22719
236 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19849
235 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] 20319
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31707
233 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24396
232 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23351
231 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22960

Boards


XE Login