CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련

2020.01.02 18:46

베컴 조회 수:19781

안녕하십니까?


이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.


그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,

그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.


에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.

(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)


확인 및 답변 부탁드립니다.

새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.

감사합니다.





번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [272] 76806
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20240
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92567
233 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1112
232 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1090
231 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1090
230 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1083
229 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1081
228 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1074
227 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1069
226 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1065
225 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1061
224 Plasma Arching [1] 1060
223 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1052
222 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1049
221 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1042
220 플라즈마 코팅 [1] 1038
219 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1034
218 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1030
217 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1029
216 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1023
215 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1018
214 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1014

Boards


XE Login