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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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792 |
Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해]
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791 |
C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책
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790 |
DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown]
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789 |
진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy]
[1] | 383 |
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788 |
플라즈마 설비에 대한 질문
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787 |
RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해]
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786 |
Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해]
[1] | 733 |
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785 |
skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
[1] | 658 |
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784 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해]
[1] | 416 |
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783 |
반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가]
[2] | 338 |
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782 |
ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential]
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781 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
[1]  | 577 |
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780 |
Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
[1] | 451 |
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779 |
Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해]
[1] | 337 |
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778 |
플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응]
[1] | 903 |
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777 |
Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
[1] | 605 |
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776 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성]
[1] | 516 |
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775 |
ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 403 |
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774 |
내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링]
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773 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
[1] | 1243 |
