번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [98] 3623
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15307
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50563
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62968
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 81976
627 self bias (rf 전압 강하) 25825
626 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25802
625 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25368
624 충돌단면적에 관하여 [2] 25316
623 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25053
622 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24516
621 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24485
620 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24379
619 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24317
618 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24274
617 플라즈마가 불안정한대요.. 24267
616 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24066
615 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23895
614 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23673
613 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 23634
612 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23535
611 플라즈마의 정의 23479
610 플라즈마 쉬스 23287
609 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23177
608 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23051

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