Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동

2009.08.05 12:52

조정안 조회 수:24779 추천:241

수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데  RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20284
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92712
759 플라즈마 온도 27811
758 DBD란 27756
757 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27652
756 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27219
755 이온과 라디칼의 농도 file 27020
754 self bias (rf 전압 강하) 26747
753 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26489
752 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26215
751 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26206
750 충돌단면적에 관하여 [2] 26186
749 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25587
748 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24991
747 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24893
746 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24891
» RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24779
744 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24766
743 plasma와 arc의 차이는? 24761
742 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24673
741 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24619
740 플라즈마가 불안정한대요.. 24524

Boards


XE Login