공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[88]
| 2910 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 14121 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 50053 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 61995 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[2]
| 80725 |
104 |
Pecvd 장비 공정 질문
[1] | 953 |
103 |
압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다.
[1] | 954 |
102 |
플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 988 |
101 |
Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다.
[1] | 992 |
100 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1081 |
99 |
Ar plasma power/time
[1] | 1156 |
98 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상
[1] | 1166 |
97 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
| 1189 |
96 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1252 |
95 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1336 |
94 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 1359 |
93 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1423 |
92 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 1424 |
91 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 1427 |
90 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1432 |
89 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1469 |
88 |
Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련.
[1] | 1710 |
87 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 1856 |
86 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 1920 |
85 |
RIE에 관한 질문이 있습니다.
[1] | 1970 |