Sputtering sputter
2004.06.25 10:55
질문 ::
Glass ITO(Indium tin Oxide) sputter coating을 할때
온도의 변화가 막에 어떤 영향을 주는지 알고 싶네요..
온도의 변화가 중요한 영향을 미치는것으로 알고있습니다.
답변 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76680 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57152 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68673 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92189 |
142 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17770 |
141 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 17428 |
140 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17191 |
139 | 플라즈마 처리 | 16930 |
138 | ICP 식각에 대하여... | 16912 |
» | sputter | 16844 |
136 | nodule의 형성원인 | 16753 |
135 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
134 | Sputter | 15879 |
133 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15801 |
132 | PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] | 15644 |
131 | 박막 형성 | 15299 |
130 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 15052 |
129 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14732 |
128 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12472 |
127 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11387 |
126 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10295 |
125 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9504 |
124 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9261 |
123 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8589 |