Sputtering sputter
2004.06.25 10:55
질문 ::
Glass ITO(Indium tin Oxide) sputter coating을 할때
온도의 변화가 막에 어떤 영향을 주는지 알고 싶네요..
온도의 변화가 중요한 영향을 미치는것으로 알고있습니다.
답변 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] | 102861 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 24688 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 61417 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 73479 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 105832 |
154 | 플라즈마 응용분야 | 17977 |
153 | 교육 기관 문의 | 17842 |
152 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17295 |
151 | ICP 식각에 대하여… [Electronegative plasma] | 17103 |
150 | 플라즈마 처리 [표면처리와 Plasma Chemistry] | 17051 |
» | sputter | 16982 |
148 | nodule의 형성원인 | 16920 |
147 | 몇가지 질문있습니다 | 16646 |
146 | Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction] [1] | 16113 |
145 | Sputter | 16109 |
144 | PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] | 15870 |
143 | 박막 형성 [ICP와 MOCVD] | 15385 |
142 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 15183 |
141 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14910 |
140 | ICP와 CCP의 차이 [Self bias와 Maxwellian distribution] [3] | 13083 |
139 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정] [1] | 12472 |
138 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사] [1] | 10700 |
137 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9838 |
136 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9337 |
135 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [Depo radical 형성 및 sputtering] [1] | 9051 |