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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68534
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13 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5652
12 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6151
11 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6173
10 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9470
9 ICP와 CCP의 차이 [3] 12383
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