OES 플라즈마 진단 OES 관련 질문

2022.11.27 01:07

wldn 조회 수:597

안녕하세요, 플라즈마 관련하여 공부하고 있는 대학원생입니다.

 

플라즈마 진단 장비인 OES에 대해 몇가지 궁금증이 있어 글을 남깁니다.

 

OES로 실시간 플라즈마 공정 모니터링을 진행시 spectrum data가 검출되는데,

해당 spectrum data 파장영역에서 검출되는 원소를 찾아 정성분석이 가능하지만,

반면 정확한 정량분석은 어떻게 이루어 지는지 원리를 알고 싶습니다.

 

OES 정량분석을 공부하다가, 다른 논문들을 통해 actinometry으로 OES 정량분석을 진행하는걸 확인하였는데,

actinometry 방법 사용 이유, 원리 등을 자세하게 알고 싶습니다. 

 

또한 플라즈마를 이용한 건식식각 공정 중 OES를 이용하여 etch chemistry를 알 수 있는 방법이 있다면, 어떠한게 있을까요?

 

질문방의 여러가지 다양한 질문과 답변을 통해 많은 도움을 받고 있습니다.

감사합니다.

 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75772
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19457
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56674
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68038
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90329
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 563
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 502
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 897
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 164
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 291
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 285
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 145
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 146
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 433
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 315
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 310
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 476
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 258
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 740
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 471
703 self bias [1] 442
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 577
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 551
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 484
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 855
쓰기
태그

Boards

XE Login