개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76734 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
749 | 플라즈마 온도 | 27780 |
748 | DBD란 | 27719 |
747 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27617 |
746 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27209 |
745 | 이온과 라디칼의 농도 | 26996 |
744 | self bias (rf 전압 강하) | 26713 |
743 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26469 |
742 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 26187 |
741 | 충돌단면적에 관하여 [2] | 26163 |
740 | OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] | 26123 |
739 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25582 |
738 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24987 |
737 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24874 |
736 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24855 |
735 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24773 |
734 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24747 |
733 | plasma와 arc의 차이는? | 24666 |
732 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24647 |
731 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 24582 |
730 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24517 |