Others O2 Plasma 에칭 실험이요

2019.01.30 14:20

Elin0503 조회 수:959

안녕하세요. 회사에 다니고 있는 직장인입니다.


이번에 저희 회사 연구실에서 O2 Plasma를 이용하여 Carbon Film을 날리는 실험을 계획중에 있습니다.


그런데 Carbon Film이 Depo된 Wafer를 구하기가 쉽지가 않습니다..


혹시 Carbon 시편을 구할 수 있는 곳이라던가 연락처아시면 


공유가 가능할까 싶어 너무나 간절한 마음에 여기에 이렇게 질문글을 작성합니다..


도움 부탁드리겠습니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92294
749 플라즈마 온도 27782
748 DBD란 27720
747 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27618
746 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27209
745 이온과 라디칼의 농도 file 26997
744 self bias (rf 전압 강하) 26713
743 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26469
742 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26187
741 충돌단면적에 관하여 [2] 26164
740 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26123
739 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25582
738 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24987
737 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24875
736 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24855
735 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24773
734 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24748
733 plasma와 arc의 차이는? 24670
732 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24648
731 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24583
730 플라즈마가 불안정한대요.. 24517

Boards


XE Login