안녕하세요.

현재, 플라즈마 장비를 이용하여 표면구조 처리를 하고자 하는 대학원생 조원희입니다.

 

다름이 아니라, 플라즈마를 주로 전공하는 과 가 아니기 때문에, 현재 연구실에 있는 플라즈마 샘플 위치에 헷갈림이 좀 있습니다.

오래전 저희 연구실에서는 O2와 Ar을 이용하여, 표면을 친수성으로 만들거나 고분자에 Ar/O2를 혼합하여 etching을 하였었는데, 경험 하신분들이 다 졸업을 하시는 바람에, 여기에 도움을 청하게 됐습니다. 

제가 궁금한 점은,

 

1. O2만을 이용하여 표면을 친수성으로 만들때의 표면 위치와

2. Ar을 이용하여 etching을 할때의 표면 위치가 

 

두 경우에 다른지가 궁금합니다.

 

타겟으로 하는 표면을 각각의 경우에, 챔버 내부의 RF Power와 Matching box가 연결되어 있는 부분에 두어야 하는지, 그 반대에 두어야 하는지 혹시 도와주실 분이 계신가요..?

 

참고로 샘플은 PDMS (고분자) 입니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103565
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24740
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61576
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106024
794 Druyvesteyn Distribution 390
793 플라즈마 식각 커스핑 식각량 226
792 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 474
791 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 125
790 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 434
789 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 451
788 플라즈마 설비에 대한 질문 310
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 504
786 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 871
785 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 848
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 486
783 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 386
782 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 841
781 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 668
780 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 542
779 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 409
778 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1053
777 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 762
776 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 611
775 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 450

Boards


XE Login