안녕하세요 

 

LG전자 손수왕 선임입니다.

 

플라즈마 소형 모듈장치로 탈취 제균 되는지 의견을 듣고 싶습니다.

 

왜냐하면 일본 다이킨 파나소닉 샤프에서 이온 발생기로 탈취 하는 기기들이 나오고 있어서

 

관심이 있습니다. 

 

하지만 실험을 해보면 실제로 잘 안되는 경우가 많네요

 

이론적으로 논문 같은 것을 찾아보면

 

실제로 탈취(가스분해), 제균 (세포막 파괴)에는

 

제품 스펙보다 더 많은 인가 에너지가 들어 가는 것 같습니다.

 

그래서 여기 계신 분들의 전문적인 소견을 좀 듣고 싶네요.  (제 생각에는 실제 탈취 하려면 더 많은 에너지가 필요 할 것 같아서요)

 

일반적인 플라즈마에서 수분이 어느 정도 없으면(대기 중1%이하) OH 라디컬이 발생하지 않고

 

산소 질소 라디컬이 발생하는데 (오존 발생, 오존을 산소로 변환하는데 관여),

 

이 라디컬들이 탈취나 제균하는데

 

얼마나 영향을 미치고 얼마나 이 플라즈마 장치에서 가까운 거리에서만 될까를 궁금해 하고 있습니다. 

 

하기에 간단하게 제품이나 실험 방법등을 요약했습니다.

 

--------------------------------------------------------------------------------------------

제품 스펙: 플라즈마 소형 모듈장치( 이온발생기, 이오나이저, 오조나이저 etc...)

             

               input 전압 12V 0.03A  / output 전압 3kv 100hZ DC 펄스  (대기 방전   

               

              양전극과 음전극 이온 발생 (무풍 조건에서 전극과 측정장치 간 거리 5cm에서 3백만개/cc 양음이온 발생

 

탈취 실험: 가스물질 (초산 암모니아)를 액상 형태로 면포에 묻힌 후

              플라즈마 소형장치(이온발생기)로 면포 근접위치에서 가동   

              / 이 실험은 30리터 밀폐박스에서 무풍조건에서 진행      (오존은 2ppm 정도 발생)  

              

             *무풍조건이란--> 밀폐박스내에서 팬장치로 강제 대류및 송풍효과를 쓰지 않았다는 뜻입니다.

 

제균 실험: 황포균 대장균을 작은 액적 형태로 살렛에 두고 플라즈마 장치와 송풍으로 이 샬렛쪽으로 원거리에서 보내주는 형태

 

              (오존 없구요, 바람에 의해서 샬렛까지, 수십만개/CC 이온이 도달하기는 하나)

 

              개인적 의견으로는 라디컬 같은 살균 활성물질이 도달하지는 않을 것 같아 바람에 의해 균이 손실 되구

 

              그래서 제균 효율이 나오는 거 같거든요

 

              바람으로 불어 준다고 해서 라디컬 활성체(살균에 도움이 된다는)들이 균에 도달 할 수 없겠죠?

              바람 안에서 라디컬 활성체들이 다 활성을 잃고 다른 분자로 될 것 같거든요 ( 균에 도달하기 전에)

 

긴글 읽어 주셔서 감사합니다.

 

혹시 이 대기 중 라디컬 물질들의 검지나, 대기 중 살아 있는 균, 죽어 있는 균을 검지하는 센서 류 등의 연구 개발 산학제의를 해주시면

 

잘 윗분들에게 보고해서 성사되게끔 노력해보겠습니다.

 

질문 해결해주셔도 좋고 전화 주셔도 좋습니다, (010 4283 5334) 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76414
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19992
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91339
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 273
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 317
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 477
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 202
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 315
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 189
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 549
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 369
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 287
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 382
726 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 321
725 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 604
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 514
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 363
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 173
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 133
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 335
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 213
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 644
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 660

Boards


XE Login