|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[303]
| 78037 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20846 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57737 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69253 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 93631 |
|
779 |
Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
[2]  | 186 |
|
778 |
corona model에 대한 질문입니다.
[1] | 187 |
|
777 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해]
[1] | 192 |
|
776 |
Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
| 197 |
|
775 |
Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
[1] | 211 |
|
774 |
Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
[1] | 213 |
|
773 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의
[1] | 215 |
|
772 |
플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해]
[2] | 218 |
|
771 |
ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 226 |
|
770 |
FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
| 231 |
|
769 |
AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]
[1] | 232 |
|
768 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다.
[1] | 245 |
|
767 |
플라즈마 제균 탈취 가능 여부
[1] | 246 |
|
766 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문
[1] | 268 |
|
765 |
skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
[1] | 269 |
|
764 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
[1] | 270 |
|
763 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성]
[1] | 276 |
|
762 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정]
[2] | 277 |
|
761 |
GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문
[1] | 279 |
|
760 |
Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료]
[1] | 280 |
