안녕하세요. 제가 최근에 플라즈마 코팅관련 회사에 입사하여 현재 플라즈마 공부중 입니다.

현재 VPS장비로 테스트 중인데 0~1 torr 보다 30~50 torr 일 떄 플라즈마제트의 모습이 훨씬 안정적인 이유를 어떻게 설명할 수 있을까요?

0~1 torr 일 때는 플라즈마의 형상이 지나치게 두껍고 불안정적인 모습입니다. 반면 챔버 내부의 압력을 증가시켰을 때는 훨씬 안정적이고

얇은 플라즈마의 형태를 띄고 있습니다. 이를 residence time과 관련해서 이해를 해야할까요?

아직 많은 논문들을 찾진 못했지만 대부분의 논문에서도 30~300 torr로 실험한 조건들이 많아 보였습니다.

또 다른 한가지 질문은 VPS 공정에서 분위기가스 즉 챔버내를 아르곤같은 불활성기체로 채워주는 이유는 단순하게 산화나 질화등을 막기

위함인가요? 분위기가스의 역할을 어떻게 정의하면 될까요?

기초적인 질문 죄송합니다. 답변 주시면 감사하겠습니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76731
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20200
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
749 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 273
748 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 290
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 309
746 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 310
745 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 315
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 316
743 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 319
742 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 320
741 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 330
740 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 341
739 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 345
738 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 348
737 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 352
736 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 354
735 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 357
734 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 362
733 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 366
732 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 373
731 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 373
730 plasma modeling 관련 질문 [1] 387

Boards


XE Login