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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62973
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104 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 973
103 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1003
102 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1020
101 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1061
100 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1131
99 Ar plasma power/time [1] 1172
98 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1188
97 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1207
96 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1324
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94 etching에 관한 질문입니다. [1] 1396
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90 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1495
89 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1505
88 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1734
87 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1872
86 Plasma etcher particle 원인 [1] 1970
85 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 1995

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