안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5833
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17290
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53125
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64508
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85120
114 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 948
113 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 998
112 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1020
111 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1051
110 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1072
109 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1152
108 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1156
107 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1177
106 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1238
105 Ar plasma power/time [1] 1239
104 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1266
103 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1293
102 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1310
101 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1356
100 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1374
99 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1502
98 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1514
97 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1536
96 터보펌프 에러관련 [1] 1541
95 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1591

Boards


XE Login