번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 48435
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 53873
474 대기압 플라즈마 23629
473 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23425
472 플라즈마 온도 23122
471 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23014
470 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 22944
469 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 22869
468 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 22823
467 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 22670
466 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22612
465 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22584
464 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22425
463 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 22390
462 Arcing 22225
461 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22032
460 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 21993
459 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 21966
458 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] 21959
457 esc란? 21951
456 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 21855
455 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 21701

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