번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49789
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55049
509 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24124
508 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24026
507 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24020
506 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23923
505 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23906
504 Silent Discharge 23847
503 esc란? 23825
502 플라즈마 온도 23622
501 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23216
500 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23115
499 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23025
498 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 22773
497 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22702
496 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22678
495 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 22475
494 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22467
493 Arcing 22382
492 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22098
491 DC glow discharge 22091
490 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22086

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