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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[54]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 25611 |
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596 |
self bias (rf 전압 강하)
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595 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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594 |
충돌단면적에 관하여
[2] | 25100 |
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593 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 24721 |
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592 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24398 |
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591 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24364 |
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590 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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589 |
플라즈마가 불안정한대요..
| 24175 |
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588 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24173 |
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587 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24152 |
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586 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 23938 |
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585 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 23722 |
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584 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 23544 |
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583 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
| 23398 |
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582 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23039 |
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581 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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580 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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579 |
플라즈마 쉬스
| 22771 |
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578 |
Arcing
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