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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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474 |
대기압 플라즈마
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473 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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472 |
플라즈마 온도
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471 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
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470 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[1] | 22869 |
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468 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
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467 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 22670 |
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466 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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465 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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464 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 22390 |
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462 |
Arcing
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461 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22032 |
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 21993 |
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[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 21966 |
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floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 21959 |
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esc란?
| 21951 |
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입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 21855 |
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455 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 21701 |
