번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102291
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24593
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61251
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73340
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105574
36 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1581
35 etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1559
34 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1488
33 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1434
32 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1433
31 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1422
30 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1415
29 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1335
28 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1297
27 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1151
26 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1141
25 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1073
24 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1064
23 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1050
22 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1001
21 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 937
20 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 869
19 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 756
18 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 709
17 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 640
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