Etch Dry Etching Uniformity 개선 방법

2016.03.02 17:46

돌맹 조회 수:4273

안녕하세요? nano imprint 및 etching을 이용하여 패턴 가공을 하는 직장인 입니다.

Al 에칭 시 전체적인 Uniformity가 잘나오지 않습니다. 항상 한쪽으로(같은 방향) 쏠리어 에칭이 됩니다.

여러 조건들 SRC,Bias 파워,유량 조절, 압력 조절 등 조건 변경하여 해보았으나 마찬가지 형태로 진행이 됩니다.

Etcher 장비는 최대 8inch 까지 가능한 장비이며 에칭 가스는 Cl2, BCl3 사용 중입니다.


uniformity 개선 관련하여 어떠한 방법이 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92294
27 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1157
26 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1141
25 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1121
24 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1059
23 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1058
22 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1013
21 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 981
20 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 844
19 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 755
18 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
17 Polymer Temp Etch [1] 663
16 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 617
15 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
14 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 547
13 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 502
12 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 471
11 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 395
10 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 387
9 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 366
8 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 354
쓰기
태그

Boards

XE Login