번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5614
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16912
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51351
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64223
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84302
652 self bias (rf 전압 강하) 26053
651 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25934
650 충돌단면적에 관하여 [2] 25479
649 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25426
648 플라즈마의 정의 25289
647 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25249
646 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24597
645 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24534
644 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24487
643 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24414
642 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24333
641 플라즈마가 불안정한대요.. 24321
640 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24254
639 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24051
638 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 23887
637 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23764
636 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23616
635 플라즈마 쉬스 23514
634 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 23414
633 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23296

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