Etch RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다.

2018.08.30 15:30

발락 조회 수:742

안녕하세요~.

저는 KIST에서 고분자 나노패턴을 연구하고 있는 손정곤 입니다.

RIE를 사용하면서 항상 블랙박스와 같이 루틴하게만 에칭을 위해 사용하고는 했는데, 궁금한 점이 있어 질문 드리게 되었습니다.

RIE 시에 형성되는 플라즈마로 인하여, 일반적인 substrate에는 

1. 플라즈마로 인한 E-field가 걸리는 곳에 이온화된 기체 원자가 직접 부딪히며 생기는 효과와

2. reactive한 radical 형태의 중성 입자가 날라와서 반응하는 효과,

2. 플라즈마로 인하여 형성되는 빛, 그러니까 plasma UV/vacuum UV (VUV) photoemissions로 생기는 효과

세 가지가 동시에 영향을 미칠 것으로 생각됩니다. 

이 경우에, 3번의 형성되는 빛으로 인한 효과는 막으면서 1,2 번의 ion과 radical의 효과만 얻는 방법이 있을 지 궁금합니다.

개인적인 생각은 grating mask(complementary filter?)를 교차로 설치하여 빛의 투과는 막으며 이온과 라디칼은 흘러가서 샘플을 때리게 하고 싶은데, 

그렇다면 이 샘플위에 부양시켜 설치하려는 grating mask는 부도체여야 하는지 도체여야 하는지, 도체라면 아래의 RF 전극과 연결되어야 하는지, 아니면 grounding이 되어야 하는 지 등등이 궁금합니다. 

grating mask가 도체면 RIE의 geometry가 변형되어 e-field 등이 변하고 ion의 움직임도 변할 것 같아 질문드립니다.

여기에서 많은 것들을 배워갑니다. 감사드립니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75027
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18871
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56344
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66872
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88354
139 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 789
138 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 785
137 문의 드립니다. [1] 777
136 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 765
135 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 765
134 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 756
» RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 742
132 플라즈마 충격파 질문 [1] 739
131 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 738
130 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 724
129 ICP lower power 와 RF bias [1] 721
128 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 721
127 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 720
126 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 715
125 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 714
124 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 705
123 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 704
122 Collisional mean free path 문의... [1] 702
121 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 698
120 anode sheath 질문드립니다. [1] 698
쓰기
태그

Boards

XE Login