안녕하세요. 반도체 회사에 재직중인 장비엔지니어 입니다.

 

에칭을 진행하는 특정 공정에서 특정 Step을 진행하는 중간에

 

60Mhz만 Ref가 튀면서 Bias Power도 튀는 현상이 있습니다..

 

27Mhz, 2Mhz도 사용하지만 해당 Power의 Ref는 정상이구요..

 

매쳐나 Generator를 바꿔봐도 현상이 똑같은거보면 chamber 내부에서 분위기가 달라지면서 발생하는 현상일 것 같은데

 

어떤 이유들이 이런 현상을 일으킬 수 있을까요..?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102953
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61443
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73484
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105853
253 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1396
252 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1387
251 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp] [1] 1369
250 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1369
249 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1364
248 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1360
247 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1341
246 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1339
245 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1332
244 Collisional mean free path 문의… [MFP와 평균값 개념] [1] 1331
243 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1326
242 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1317
241 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1317
240 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 1315
239 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1313
238 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1298
237 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1292
236 아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance] [1] 1284
235 Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown] [1] 1283
234 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1274

Boards


XE Login