ESC Dry Etcher 내 reflect 현상
2009.08.07 13:39
안녕하세요 저는 Dry Etcher 네 세라믹 Coating Type 정전척 ESC 만드는 회사에 다니고 있습니다.
다름이 아니라 고객사에서 Dry Etcher 장비 의 Reflect현상이 발생했다고 하는데 , 이현상에 대해 설명 부탁드립니다.
아울러 이 현상과 ESC 연관성에 대해서도 설명 부탁드립니다.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76874 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20274 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92696 |
197 | TMP에 대해 다시 질문 드립니다. | 18012 |
196 | 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19361 |
195 | [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19559 |
194 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22550 |
193 | 플라즈마 측정기 [1] | 21334 |
» | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22253 |
191 | Arcing [1] | 28662 |
190 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24777 |
189 | 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] | 18759 |
188 | 궁금해서요 | 16316 |
187 | PM을 한번 하시죠 | 19732 |
186 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20394 |
185 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22779 |
184 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19221 |
183 | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19461 |
182 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26488 |
181 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21515 |
180 | RF에 대하여... | 32044 |
179 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24184 |
178 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24988 |