Sheath plasma and sheath, 플라즈마 크기
2004.07.02 00:28
질문 ::
sheath가 형성된 부분은 전위가 매우 낮다가 일정영역에서는
높은 전위로 일정하게 유지되는데...
그렇다면 플라즈마내에서 voltalge drop이 있다고 해야하는 건가요??
어디서 어디까지가 플라즈마 형성 영역으로 봐야하는건지
잘 모르겠습니다.
아님 그냥 밀도 차이로 보면 되는건가요??
애매해서 질문드립니다.
답변 ::
플라즈마는 준중성상태를 유지하고 집단행동을 할 정도의 많은 하전입자의 모임입니다. 플라즈마 쉬스는 플라즈마의 경계에서 생기는
플라즈마의 일부분으로 쉬스에서는 플라즈마의 본래
특성인 준 중성상태의 조건을 위배하며 이온이 많고 강한 전기장이 형성되는 영역입니다. 쉬스와 플라즈마 본체 사이에는 플라즈마 온도의 절반에 해당하는 전위차를 갖으며 이 전위차로 부터 이온이 에너지를 받아 쉬스로 입사되게 되는, 즉 이온이 가속되는 영역인 프리 쉬스 (전외장)이 형성되어 있습니다. 프리쉬스 내에서는 플라즈마의 준 중성 상태는 유지됩니다.
따라서 플라즈마 특성이 유지되는 곳으로 플라즈마
크기를 정의한다면 쉬스 영역을 제외하고 생각하는
편이 옳을 수 있습니다. 정확히 이야기 하면 프리 쉬스 (전외장)까지
이겠지요. 하지만, 플라즈마 상태가
유지되는 곳의 그 가장자리에는 늘 쉬스가 형성되어 있음으로
플라즈마와 쉬스를 분리해서 플라즈마 용적을 생각하기는 어렵습니다.
쉬스에 대해서는 여러차례 설명을 했으니 이전 설명을 참고하기 바랍니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76739 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20211 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68703 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92294 |
189 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 869 |
188 | 문의 드립니다. [1] | 868 |
187 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 868 |
186 | RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] | 863 |
185 | 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] | 856 |
184 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 854 |
183 | PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] | 845 |
182 | RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] | 844 |
181 | 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] | 844 |
180 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 840 |
179 | ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] | 833 |
178 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 824 |
177 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 821 |
176 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 815 |
175 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 812 |
174 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 806 |
173 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 805 |
172 | DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] | 800 |
171 | Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] | 800 |
170 | 플라즈마 충격파 질문 [1] | 794 |