Plasma in general 산소 플라즈마에 대한 질문입니다...
2018.11.15 10:26
이제 막 플라즈마에 대해 공부하고 있는 학생입니다.
산소와 아르곤 플라즈마를 이용해 물질을 처리하려고 하는데요
실험전에 아르곤플라즈마와 산소플라즈마를 조금씩 섞어줄 떄 온도 변화를 먼저 측정해 봤었는데요
산소를 섞어줄수록 중심으로부터 안테나부근의 온도들은 아르곤만 있었을 때보다 떨어졌으나
거의 챔버의 끝에서는 오히려 산소플라즈마를 섞은 것이 온도가 더 높게 측정되었습니다..
이유가 무엇일까요..?
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] | 4887 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 16227 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 51250 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 63747 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] | 83513 |
| 58 | 플라즈마 쉬스 | 23469 |
| 57 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23566 |
| 56 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 23709 |
| 55 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 23745 |
| 54 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 23937 |
| 53 | 플라즈마의 정의 | 23984 |
| 52 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24210 |
| 51 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24295 |
| 50 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24305 |
| 49 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24355 |
| 48 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24422 |
| 47 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24510 |
| 46 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24547 |
| 45 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 25148 |
| 44 | 충돌단면적에 관하여 [2] | 25385 |
| 43 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25400 |
| 42 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 25875 |
| 41 | self bias (rf 전압 강하) | 25904 |
| 40 |
이온과 라디칼의 농도
| 26298 |
| 39 | 플라즈마 온도 | 26628 |