안녕하세요.

 

반도체 회사에서 일 하고 있는 연구원이지만, 플라즈마에 관한 지식이 부족하여 이렇게 질문드립니다.

 

Plasma etch rate에 관하여 궁금한 것이 있어 이렇게 글을 남기게 되었습니다.

 

CCP 방식으로 etch를 진행하는 챔버를 PM 후 공정결과가 E/R이 증가되는 경향이 보였습니다.

 

로그를 분석 해본 결과, PM 전후로 달라진 점은 shunt 값이 감소한 것 밖에는 없습니다.

 

RF V,I 도 변화하였지만, 그 값들은 shunt가 변함에 따라 변한 것으로 생각하였습니다.

 

제가 궁금한 점은

 

1. PM만 진행하였을 때 shunt 값이 변할 수 있나요?

 

2. 감소한 shunt 값으로 인하여 E/R이 증가할 수 있나요?

 

3. Shint 값이 변화한 것은 챔버 내부의 저항이 변화되었을 가능성이 가장 큰 것일까요?

 

이상입니다. 감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102743
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24678
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61391
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73462
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105796
213 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [글로우 방전 및 아크 방전] [1] 1188
212 Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전] [1] 1184
211 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [광운대 플라즈마 바이오 연구소] [1] 1183
210 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1177
209 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 1176
208 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1174
207 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 1173
206 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1170
205 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 1168
204 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1166
203 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 1164
202 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1161
201 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1143
200 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 1137
199 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 1127
198 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1109
197 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1100
196 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1095
195 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1085
194 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1084

Boards


XE Login