안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.

다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.

RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.

초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.

1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?

2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76431
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19995
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57067
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68543
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91342
157 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 766
156 Collisional mean free path 문의... [1] 765
155 라디컬의 재결합 방지 [1] 759
154 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 751
153 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 731
152 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 731
151 교수님 질문이 있습니다. [1] 719
150 ICP 후 변색 질문 712
149 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 711
148 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 710
147 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 709
146 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 708
145 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 703
144 Self bias 내용 질문입니다. [1] 700
143 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 693
142 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 691
141 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 691
140 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 689
139 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 682
138 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 680

Boards


XE Login