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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21965 |
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플라즈마 코팅에 관하여
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PEALD관련 질문
[1] | 22138 |
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84 |
압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다.
[1] | 22177 |
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83 |
CCP/ICP , E/H mode
| 22227 |
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82 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22283 |
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81 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22343 |
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80 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22380 |
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22409 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22449 |
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77 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22482 |
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76 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22491 |
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75 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22695 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22793 |
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고온플라즈마와 저온플라즈마
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71 |
No. of antenna coil turns for ICP
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DC glow discharge
| 22950 |
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23076 |
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광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23081 |
