|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
| 73074 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17640 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 55521 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 65724 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 86101 |
|
87 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21963 |
|
86 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21973 |
|
85 |
압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다.
[1] | 22127 |
|
84 |
PEALD관련 질문
[1] | 22135 |
|
83 |
CCP/ICP , E/H mode
| 22218 |
|
82 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22282 |
|
81 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22343 |
|
80 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22380 |
|
79 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22409 |
|
78 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22447 |
|
77 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22481 |
|
76 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22491 |
|
75 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22695 |
|
74 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22773 |
|
73 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22792 |
|
72 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 22812 |
|
71 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 22848 |
|
70 |
DC glow discharge
| 22950 |
|
69 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23075 |
|
68 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23081 |
