CCP 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
2023.08.08 16:33
안녕하세요.
CCP 설비에서 RF 주파수를 증가하면 플라즈마 밀도가 증가를 하고 주파수를 감소하면 이온에너지가 증가한다고 합니다.
이중에 플라즈마 밀도가 왜 증가하는지 알려주면 감사하겠습니다.
저는 Dry Etch 엔지니어 입니다.
댓글 1
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