번호 제목 조회 수
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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65724
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86101
67 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23137
66 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23145
65 Arcing 23246
64 plasma와 arc의 차이는? 23304
63 self Bias voltage 23310
62 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23389
61 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 23443
60 플라즈마 쉬스 23612
59 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23692
58 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23839
57 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24056
56 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 24064
55 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24142
54 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24330
53 플라즈마가 불안정한대요.. 24368
52 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24526
51 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24532
50 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24539
49 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24599
48 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24737

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