Matcher matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계]
2010.05.05 13:54
안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] | 103280 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 24711 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 61516 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 73517 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 105937 |
194 | DBD plasma [Excitation과 Power Current] | 18212 |
193 | 증착에 대하여... | 18216 |
192 | 진로상담 [플라즈마 응용분야] | 18261 |
191 | 저온 플라즈마에 관한 질문 | 18291 |
190 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [Power와 Gas ionization] [1] | 18301 |
189 | rotational vibration excitation [TLD와 IRLAS] | 18307 |
188 | ICP에 대하여 [DC glow 방전과 ICP 플라즈마 발생] | 18329 |
187 | 마그네트론관 또는 그외반도체소자로 물을 고열증발가능? | 18411 |
186 | PDP 에 대해서.. | 18411 |
185 | 플라즈마와 사용되는 기체선택 | 18414 |
184 | 실생활에서 사용되는 플라즈마 | 18431 |
183 | sputtering | 18443 |
182 | TMP에 대해 다시 질문 드립니다. | 18454 |
181 | Plasma Gas의 차이점 [플라즈마 화학 반응 및 에너지 전달] [1] | 18469 |
180 | 물리적인 sputterting | 18482 |
179 | Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] | 18488 |
178 | 질문 있습니다. [Plasma breakdwon과 plasma particle] [1] | 18531 |
177 | RF compensate probe | 18541 |
176 | 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] | 18640 |
175 | 플라즈마을 막는 옷의 소재는? [옷의 소재 표면 처리] | 18640 |
- 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.