안녕하세요?

플라즈마 응용연구실 인원 여러분

저는 성대 박사과정으로 있는 박형식이라고 합니다.

다름이 아니오라 제가 새벽에 실험 중에 갑작스런 현상이 발생한 것에 대해 궁금한 것이 이렇게 질문을 하게 되었습니다.

제가 스퍼터에 대해 실험 중에 DC 파워를 인가하는 중에 DC 파워 디스플레이에 high impedance란 메시지가 떴습니다.

혹시 몰라 일단 DC 파워는 off 시킨 상태이구요.

원인이 정확히 무엇인지 알고 싶습니다.

기타 실험 조건들에 대해서는 아래 적어 놓겠습니다. 확인하시고 답변 주시면 감사하겠습니다.
--> 압력 : 0.5mtorr (Ar 10 sccm), 파워 500W, 온도  240oC, Tilt 각도 : 40 deg, 거리 가변 불가, 5rpm
타겟은 산화물 타겟이며 Al2O3 2wt.% doped ZnO 타겟입니다.
DC 파워는 피에스 플라즈마 SDC1024A 이고 파워 범위는 최대 2kW입니다.

혹 챔버 용량에 비해 가스량이 적으면 문제가 되는 것인지? 아니면 다른 문제인지..알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75022
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18864
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56341
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66858
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88327
79 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22601
78 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22763
77 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22812
76 고온플라즈마와 저온플라즈마 22872
75 No. of antenna coil turns for ICP 22893
74 DC glow discharge 23019
73 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 23057
72 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23113
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23125
70 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23181
69 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23196
68 Arcing 23355
67 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23460
66 self Bias voltage 23465
65 plasma와 arc의 차이는? 23577
64 플라즈마 쉬스 23666
63 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23751
62 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23893
61 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 23987
60 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24076

Boards


XE Login