OES OES 원리에 대해 궁금합니다!
2018.05.31 19:08
안녕하세요 한양대학교에서 공부하고 있는 학생입니다
이번에 플라즈마 수업을 듣는데 플라즈마를 검진하는 방법중에 하나인 OES에 대해서 조사를 해보고 있는데
생각보다 자료가 많이 나오지 않아서 어려움을 겪고 있습니다
플라즈마 검진법중 하나인 OES에 대해서 조금 자세하게 설명 해주실수 있을까요??
부탁드립니다!
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] | 74885 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18736 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56224 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66686 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88010 |
| 78 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 22755 |
| 77 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22806 |
| 76 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 22869 |
| 75 | No. of antenna coil turns for ICP | 22888 |
| 74 | DC glow discharge | 23006 |
| 73 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 23020 |
| 72 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23109 |
| 71 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23120 |
| 70 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23179 |
| 69 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23183 |
| 68 | Arcing | 23340 |
| 67 | self Bias voltage | 23443 |
| 66 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23454 |
| 65 | plasma와 arc의 차이는? | 23532 |
| 64 | 플라즈마 쉬스 | 23654 |
| 63 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23744 |
| 62 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 23888 |
| 61 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 23972 |
| 60 | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] | 24051 |
| 59 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24075 |
어렵죠. OES는 말 그대로 optical emission spectroscopy 즉 광 스펙트럼을 진단하는 장치를 총괄하는 표현이라 할 수 있습니다. 따라서 진단 방법이기도 하고, 진단 장치를 의미하기도 합니다. 플라즈마는 플라즈마 생성 과정에서 전자 충돌에 의한 원자/분자/이온의 여기반응으로 부터 빛을 방출하고 각 입자들은 고유 빛 파장을 가짐으로 분광하여 방출 입자의 종을 파악하거나 혹은 그 에너지 상태를 해석할 수가 있습니다. 따라서 플라즈마의 2가지 핵심 진단 방법은 광진단계에 의존하는 방법과 전하를 측정하는 전기적 방법으로 크게 두 방법으로 구분할 수 있고 플라즈마 진단의 큰 축을 담당하는 방법이 OES 방법이라 할 수 있습니다. 특히 OES는 플라즈마가 내는, 플라즈마 입장의 자발광 빛의 파장 정보를 얻은 방법이라 할 수 있겠습니다. OES 공부를 위해서는 J.M. Hollas 의 Modern Spectroscopy 를 공부해 보기를 추천합니다.