Matcher HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
2011.04.08 12:17
LCD 장비 업체에 근무하는 김기권이라고 합니다.
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) Source/Drain 공정에서만 발생하고 있습니다 , 발생 시점 은 Plasma On 후 15~20sec 후 (Ti Etching 완료되고, Al 막이 전면적으로 나타난 시점)
증상은 HVDC current '0" , DC Bias 상승 (최대치인 100V 까지), 동시에 Bias Reflect (전반사 - 미세한 Refect가 아니라, 전면적인 반전)
2. 조치 사항
1) HVDC Swap - 변화 없음
2) ESC Filter Swap - "
3) RF Matcher Swap - "
4) ESC 교체 - 일시적 개선되나, 시간을 두고 다시 재발
장비에 문제 인지 ESC 에 문제인지 파악이 안되고 있습니다.
많은 도움 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
149 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
148 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 708 |
147 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 706 |
146 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 702 |
145 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 701 |
144 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 696 |
143 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
142 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 687 |
141 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 685 |
140 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 683 |
139 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 679 |
138 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 669 |
137 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 666 |
136 | Polymer Temp Etch [1] | 663 |
135 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 657 |
134 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 638 |
133 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 636 |
132 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 634 |
131 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 625 |
130 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 618 |