Others RPC CLEAN 시 THD 발생

2018.10.25 14:48

야키소바빵 조회 수:634

안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는  공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.


혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76738
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92283
149 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 709
148 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 708
147 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 706
146 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 702
145 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 701
144 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 696
143 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 694
142 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 687
141 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 685
140 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 683
139 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 679
138 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
137 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 666
136 Polymer Temp Etch [1] 663
135 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
134 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 639
133 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
» RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 634
131 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 625
130 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 618

Boards


XE Login