Plasma Source 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
2023.06.26 10:34
안녕하세요. 현재 ETCH 공정엔지니어를 직업으로 하고 있습니다.
다름이 아니라 ETCH 공정에 많은 Route 중 Metal Etch 공정에 관해 질문 드립니다.
METAL을 ETCH 할 경우 주 GAS로는 BCL3 + CL2 를 이용하고 추가적으로 N2, CHF3, CH4의 부수적인 GAS를 사용 합니다.
이러한 GAS 중 CH4 GAS의 용도 및 역할에 대해서 상세히 알고 싶습니다..
도움 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76936 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20309 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57227 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68778 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92765 |
| 160 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 731 |
| 159 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 724 |
| 158 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 723 |
| » | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 722 |
| 156 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 721 |
| 155 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 714 |
| 154 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 710 |
| 153 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 709 |
| 152 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 701 |
| 151 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 695 |
| 150 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 692 |
| 149 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 690 |
| 148 | Polymer Temp Etch [1] | 680 |
| 147 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 677 |
| 146 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 664 |
| 145 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 661 |
| 144 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 650 |
| 143 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 645 |
| 142 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 639 |
| 141 |
Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다.
[1]  | 637 |