안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.

다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.

RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.

초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.

1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?

2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19992
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68541
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91339
136 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 671
135 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 660
134 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 659
133 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 659
132 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 653
131 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 646
130 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 644
129 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 643
» RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 641
127 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 629
126 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 624
125 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 618
124 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 611
123 Polymer Temp Etch [1] 607
122 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 604
121 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 603
120 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 601
119 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 592
118 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 591
117 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 586

Boards


XE Login