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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[338]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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178 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건]
[2] | 27719 |
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177 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지]
[1] | 20955 |
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176 |
RF plasma에 대해서 질문드립니다. [Sheath model, Ion current density]
[2] | 23159 |
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175 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential]
[2] | 24875 |
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174 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 24729 |
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173 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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172 |
self bias (rf 전압 강하)
| 28017 |
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171 |
궁금합니다 [입자 속도에 따른 충돌 단면적과 mean free path]
[1] | 18490 |
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170 |
DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포]
[5] | 34190 |
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169 |
핵융합과 핵폐기물에 대한 질문
| 16750 |
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168 |
AMS진단에 대하여 궁금합니다
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167 |
Three body collision process
| 21698 |
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166 |
플라즈마에서 전자가 에너지를 어느 부분에서..
| 18726 |
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165 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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164 |
RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도
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163 |
플라즈마의 정의
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162 |
Ground에 대하여
| 41314 |
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161 |
교재구입
| 21695 |
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160 |
DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여..
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159 |
대기압플라즈마를 이용한 세정장치
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